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近日消息,三星正积极从ASML引进更多高数值孔径EUV光刻机,并计划将其融入本地生产体系。尽管这些设备价格高昂,但三星此举意在为公司带来关键优势,尤其是加速2nm GAA晶圆的生产进程。
韩国首尔,2025年9月3日——SK海力士3日宣布,已将业界首款量产型高数值孔径极紫外光刻机(High NA EUV*)引进韩国利川M16工厂,并举行了设备入厂庆祝仪式。
如今,随着IGBT技术的不断增强,应用领域持续拓宽,特别是在新兴领域中,IGBT正在逐渐成为推动行业变革的关键力量。
近日,小鹏汽车与芯联集成联合宣布,国内首个混合碳化硅产品已实现量产。这为新能源汽车的性能提升和降低成本开辟了新路径。
在全球科技竞争的浪潮中,光子芯片作为突破电子芯片性能瓶颈的核心技术,正逐渐成为各方瞩目的焦点。它以光波作为信息载体,通过集成激光器、调制器、探测器等光电器件,实现了低时延、高带宽、低功耗的数据处理能力。随着人工智能算力需求呈爆发式增长,光子芯片技术路线呈现出多元化的发展态势。
清华大学化学系许华平教授团队在极紫外(EUV)光刻材料领域取得突破性进展。他们开发出一种基于聚碲氧烷(Polytelluoxane,PTeO)的新型光刻胶体系,为先进半导体制造提供了创新的材料设计范式。
当三星在韩国牙山市A3工厂的OLED生产线进入最后调试阶段时,这家屏幕巨头正用一个夸张的产能数字向市场释放信号:2026年专为苹果可折叠iPhone准备的面板年产能将达1500万块。
2025年上半年已经结束,在各种不确定性因素的影响下,消费电子市场也发生了一些变化。这其中,有AI带来的对产业革新换代的推进,也有美国关税政策变化下品牌厂商在供应侧的调整。
SEMI在其发布的《全球半导体设备市场报告》Worldwide Semiconductor Equipment Market Statistics(WWSEMS)Report中指出,2025年第一季度全球半导体设备出货金额同比增长21%,达到320.5亿美元。
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